HMDS预处理真空镀膜机,又称真空镀膜干燥箱、HMDS预处理系统,是一种专用于半导体、光电、微电子等领域中光刻前处理工艺的专用设备。其主要功能是在真空环境下将六甲基二硅氮烷以蒸汽形式沉积于基材表面,从而改善基材表面亲水性,提高光刻胶与基底的附着力,确保后续微图形工艺的质量与稳定性,该预处理真空干燥箱适用于1~12英寸半导体晶圆(硅基、碳化硅、氮化镓等)、MEMS传感器基板、LED芯片衬底、光学镜片等高精度元件的预处理,覆盖集成电路制造、先进封装、光电器件生产、高校科研等场景。
| 型号 | TDM-64V | TDM-90V | TDM-125V | TDM-196V |
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| 电源电压 | AC220V 50Hz | |||
| 控制系统 | PLC智能控制 | |||
| 仪表控制 | 彩色触摸屏 | |||
| 控温范围 | RT+10~200℃ | |||
| 温度分辨率 | 0.1℃ | |||
| 温度波动度 | ±0.1℃ | |||
| 极限真空度 | ≤30pa(0.3mbar) | |||
| 内胆尺寸W*D*H(mm) | 400*400*400 | 450*450*450 | 500*500*500 | 550*550*650 |
| 容积 | 64L | 90L | 125L | 196L |
| 载物托架 | 2层 | 2层 | 3层 | 3层 |
| 内胆材料 | 316L不锈钢 | |||
| 真空泵 | 干式涡旋真空泵 | |||