极域真空镀膜系统

极域真空镀膜系统
用途概述
极域真空镀膜系统以“极致真空性能”与“全域工艺覆盖”为内核，成为半导体、光学、新能源等高端制造领域的标杆设备，助力客户突破镀膜技术瓶颈，实现“高精度、高效率、高回报”的智造升级。
产品特点
※HMDS蒸汽分子均匀聚合并精准附着于晶圆表面，实现纳米级镀膜均匀性；
※真空性能领先，高效真空泵可加快真空建立时间，支持快速启停生产，确保工艺稳定性；
※尾气处理系统可降低HMDS采购成本，HMDS/有机溶剂回收率高，符合RoHS/REACH标准。
※采用PLC工控自动化系统，人机界面采用触摸屏，可靠性高，操作智能方便；
※PLC控制系统具有自动控温、任意定时、超温报警等，彩色触摸屏显示，控温准确可靠；
※智能化触摸屏控制系统，可根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。
※采用钢化玻璃观察窗，监测方便，一体成型的硅橡胶门封，确保箱内密封性好；
※腔体呈立方体或长方体，棱角分明，直角设计增强抗压性能，内部空间利用率高；
※低真空镀膜工艺的密闭腔体结构，真空环境可控，确保镀膜过程无污染、无泄漏；
※承载均匀涂布与多工艺集成，支持蒸发、溅射、MBE、PLD等多工艺模块的智能融合，可一次处理4盒晶片。
※采用钢化玻璃观察窗，监测方便，内胆不锈钢，无易燃易爆装置，无发尘材料，一体成型的硅橡胶门封，确保箱内密封性好。
 

极	高真空/低真 空精准控制	1.极限真空，象征对真空环境的高精度控制能力； 2.极致性能，核心参数(镀膜均匀性、工艺稳定性等)达行业顶尖。
域	温度、压力	1.工艺可控域：精密调控温度场、压力梯度等工艺参数； 2.技术覆盖域：兼容蒸发、溅射、离子镀等多种镀膜技术，适配多样化生产。
应用场景	半导体制造	1.工艺可控域：精密调控温度场、压力梯度等； 2.技术覆盖域：兼容多种镀膜技术，适配多样化生产。
	光学器件镀膜	1.光学镜头抗反射膜(AR)、红外滤光片多层膜； 2.激光器腔镜高反射膜(HR)、分光膜。
	新能源与新材料	1.钙钛矿太阳能电池电极层(ITO/Ag)沉积； 2.柔性显示面板(OLED)透明导电膜(AZO)镀制。
工艺适配	工艺类型	物理气相沉积(PVD):磁控溅射、电弧离子镀、电子束蒸发； 化学气相沉积(CVD):等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
	镀膜材料	金属(Al、Cu、Ag)、氧化物(Al₂O₃ 、TiO₂)、氮化物(TiN、SiN)等。
典型应用	半导体代工	应用场景：3nm逻辑芯片金属互联层沉积； 客户价值：提升芯片良率15%,降低电迁移失效风险。
	光学镜头制造	应用场景：8K超高清镜头抗反射膜镀制； 客户价值：反射率<0.1%,透光率>99.5%(400-700nm波段)。
	钙钛矿光伏	应用场景：大面积钙钛矿电池电极层连续镀膜； 客户价值：电池转换效率突破26%,成本降低30%。
	航空航天	应用场景：卫星光学载荷耐辐射保护膜沉积； 客户价值：通过ISO-15860空间环境模拟认证。

 
技术参数

型号	ZDM-90V		ZDM-125V	ZDM-215V
电源电压	AC 220V 50Hz
控制系统	PLC智能控制
仪表控制	彩色触摸屏
控温范围	RT+10-200℃
温度分辨率	0.1℃
温度波动度	±0.1
真空度	≤133pa
内胆尺寸	450*450*450		500*500*500	550*550*650
容积	90L		125L	210L
载物托架	2层		3层	3层