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HMDS预处理真空镀膜机

HMDS预处理真空镀膜机

产品描述:极域 真空 镀膜 系统 用途概述 极域真空镀膜系统以极致真空性能与全域工艺覆盖为内核,成为半导体、光学、新能源等高端制造领域的标杆设备,助力客户突破镀膜技术瓶颈。...
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HMDS预处理真空镀膜机
HMDS预处理真空镀膜机,又称真空镀膜干燥箱、HMDS预处理系统,是一种专用于半导体、光电、微电子等领域中光刻前处理工艺的专用设备。其主要功能是在真空环境下将六甲基二硅氮烷以蒸汽形式沉积于基材表面,从而改善基材表面亲水性,提高光刻胶与基底的附着力,确保后续微图形工艺的质量与稳定性,喆图预处理真空干燥箱适用于 1-12 英寸半导体晶圆(硅基、碳化硅、氮化镓等)、MEMS 传感器基板、LED芯片衬底、光学镜片等高精度元件的预处理,覆盖集成电路制造、先进封装、光电器件生产、高校科研等场景。
产品特点
技术特点
①采用高效真空系统,确保HMDS处理在稳定、无氧、低湿环境中进行,避免水汽干扰;
②支持硅片、玻璃片、蓝宝石、ITO基板等材料的预处理,可根据客户需求定制托盘、样品架;
③腔体采用耐HMDS腐蚀的不锈钢材质,防止气体残留腐蚀设备,冷凝系统处理完毕后可自动排放或冷凝未反应的HMDS蒸气,保护环境和人员安全;
智能操控
①触摸屏控制系统,可根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间;
②PLC控制系统具有自动控温、任意定时、超温报警等,彩色触摸屏显示,控温准确可靠;
③具有温控模块,腔体加热与基材加热温度均匀,确保HMDS蒸气均匀分布并稳定沉积;
匠心工艺
①采用钢化玻璃观察窗,监测方便,一体成型的硅橡胶门封,确保箱内密封性好;
②腔体呈立方体或长方体,棱角分明,直角设计增强抗压性能,内部空间利用率高;
③低真空镀膜工艺的密闭腔体结构,真空环境可控,确保镀膜过程无污染、无泄漏;
工艺集成
①承载均匀涂布与多工艺集成,支持蒸发、溅射、MBE、PLD等多工艺模块的智能融合;
②采用钢化玻璃观察窗,监测方便,内胆不锈钢,无易燃易爆装置,无发尘材料,一体成型的硅橡胶门封,确保箱内密封性好;
③提供单腔、双腔、四腔等多规格腔体设计(四腔机型支持独立控温与工艺,产能提升4 倍)可根据客户产能需求定制腔体尺寸与处理容量;
半导体制造 工艺可控域:精密调控温度场、压力梯度等;
技术覆盖域:兼容多种镀膜技术,适配多样化生产。
光学器件镀膜 光学镜头抗反射膜(AR)、红外滤光片多层膜;
激光器腔镜高反射膜(HR)、分光膜。
新能源与新材料 钙钛矿太阳能电池电极层(ITO/Ag)沉积;
柔性显示面板(OLED)透明导电膜(AZO)镀制。

技术参数
型号 TDM-64V TDM-90V TDM-125V TDM-196V
电源电压 AC 220V 50Hz
控制系统 PLC智能控制
仪表控制 彩色触摸屏
控温范围 RT+10-200℃
温度分辨率 0.1℃
温度波动度 ±0.1
真空度 ≤30pa(0.3mbar)
内胆尺寸W*D*H(mm) 400*400*400 450*450*450 500*500*500 550*550*650
容积 64L 90L 125L 196L
载物托架 2层 2层 3层 3层
内胆材质 316不锈钢 316不锈钢 316不锈钢 316不锈钢
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